| 发明名称 | 催化CVD装置、膜的形成方法、太阳能电池的制造方法和基材的保持体 | ||
| 摘要 | 在催化CVD装置(100)中，保持体300)具有用于防止从催化剂丝(11)所放出的辐射线向基材(200)侧反射的防反射结构。 | ||
| 申请公布号 | CN102575343A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201080044569.8 | 申请日期 | 2010.10.01 |
| 申请人 | 三洋电机株式会社;株式会社爱发科 | 发明人 | 岛正树;若宫要范;大园修司;冈山智彦;小形英之 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/24(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种催化CVD装置，其特征在于：其对设置于反应室内且被加热的催化剂丝供给原料气体，使所生成的分解产物沉积于在所述反应室内由保持体所保持的被成膜基材上，进行成膜，所述保持体具有用于防止从所述催化剂丝放出的辐射线反射的防反射结构。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||