发明名称 |
一种肖特基整流器件及制造方法 |
摘要 |
本发明属于整流器件领域,特别涉及一种沟槽肖特基整流器件,该器件包括:由下至上依次为:阴极金属、第一导电类型阴极层、第一导电类型基底、第一导电类型外延层、势垒金属;以及位于外延层之上势垒金属区域外的二氧化硅层;所述的外延层至少有一个由其表面向下延伸的沟槽,沟槽位于外延层之上的二氧化硅层之下,所述的沟槽中设有填充层;沟槽至少一个侧壁向外倾斜,与外延层水平面的角度大于或等于10度,小于或等于45度;该肖特基整流器件有效地缓减了电势的过度集中,提高器件的反向击穿电压;另外本发明还公开了肖特基整流器件的一种制造方法。 |
申请公布号 |
CN102569422A |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201010622193.6 |
申请日期 |
2010.12.31 |
申请人 |
比亚迪股份有限公司 |
发明人 |
严光能 |
分类号 |
H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/872(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种肖特基整流器件,其特征在于,该器件包括:由下至上依次为:阴极金属、第一导电类型阴极层、第一导电类型基底、第一导电类型外延层、势垒金属;以及位于外延层之上势垒金属区域外的二氧化硅层;所述的外延层至少有一个由其表面向下延伸的沟槽,沟槽位于外延层之上的二氧化硅层之下,所述的沟槽中设有填充层;沟槽至少一个侧壁向外倾斜,与外延层水平面的角度大于或等于10度,小于或等于45度。 |
地址 |
518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 |