发明名称 | 光学邻近校正规则的优化方法 | ||
摘要 | 一种光学邻近校正规则的优化方法,包括:提供基本图形单元;通过相同种类或不同种类的一个或多个基本图形单元的排列组合,获得预备版图图形;根据原有校正规则,获得目标版图图形,并对每个所述目标版图图形进行光学邻近校正,获得其中待校正的图案;对所述目标版图图形中待校正图案进行校正,保存优化的校正规则。本发明通过由基本图形单元所构成的预备版图图形提供了大量具有多样性和随机性的图案,并基于所述预备版图图形的光学邻近校正,获得各种图案所对应的校正规则的集合,进而实现对原有校正规则的优化,大大节省了实际校正过程的时间以及人力。 | ||
申请公布号 | CN101788760B | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
申请号 | CN200910045895.X | 申请日期 | 2009.01.23 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 张飞 |
分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
主权项 | 一种光学邻近校正规则的优化方法,其特征在于,包括:提供基本图形单元;通过相同种类或不同种类的一个或多个基本图形单元的排列组合,获得预备版图图形;获得目标版图图形,根据原有校正规则,对每个所述目标版图图形进行光学邻近校正,获得其中待校正的图案,所述待校正的图案为所述目标版图图形中被闭合曲线围绕的区域;对所述目标版图图形中待校正图案进行光学邻近校正,保存优化的校正规则;所述根据原有校正规则,对每个目标版图图形进行光学邻近校正,获得目标版图图形中待校正的图案包括:对每个所述预备版图图形进行设计规则检查,对所述预备版图图形中不符合设计规则的图案进行调整,获得目标版图图形;对所述目标版图图形应用光学模型进行模拟,获得对应的模拟图形,并根据原有校正规则,对目标版图图形进行校正;以每个闭合曲线所围成的区域作为一个图案,比较在所述目标版图图形与所述模拟图形中的各个图案的位置误差,获得所述目标版图图形中待校正的图案。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |