| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种用于浅沟槽隔离抛光工艺的抛光液，它含有一种硅基磨料，阴离子型表面活性剂和水，该抛光液具有较高的高密度二氧化硅(HDP-Oxide)的去除速率以及较高的对氮化硅的去除速率选择比，抛光后的晶圆具有完好的表面形貌和较低的表面污染物残留。 | ||
| 申请公布号 | CN102559058A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201010604014.6 | 申请日期 | 2010.12.21 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 姚颖;宋伟红;孙展龙 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，该抛光液包含一种二氧化硅磨料，一种阴离子型表面活性剂和水。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||