发明名称 |
太阳能电池的制造方法及太阳能电池的制造装置 |
摘要 |
本发明制造能量转换效率高的太阳能电池。将在作为P型层的多晶硅基板上形成的成为n型层多晶硅层的表层,使用等离子体进行氧化处理,然后利用CVD处理堆积硅氮化膜,由此在多晶硅层的表层形成钝化膜。使用10eV以下的鞘层电位的等离子体,在压力是6.67Pa~6.67×102Pa的范围、温度是200℃~600℃的范围的条件下进行这种等离子体氧化处理。激发等离子体的微波通过缝隙天线被提供给处理容器内,通过微波的表面波生成等离子体。 |
申请公布号 |
CN102569524A |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201210031645.2 |
申请日期 |
2007.11.06 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
村川惠美 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李伟;舒艳君 |
主权项 |
一种太阳能电池的制造方法,其中,包括:使用具有10eV以下的鞘层电位的等离子体使硅层的表层氧化、氮化或氮氧化,在所述硅层的表层形成钝化膜的工序,在所述硅层的表层所形成的钝化膜上,通过CVD处理形成氧化膜、氮化膜或氮氧化膜,并进一步形成钝化膜,在使所述硅层的表层氮氧化而形成钝化膜的情况下,在所述CVD处理时,将含有氧和氮的处理气体导入到处理容器内,使该导入的处理气体的氮相对氧的比率逐渐地增加,以使钝化膜中的氮原子含有率在堆积方向上逐渐地增加。 |
地址 |
日本东京都 |