发明名称 |
一种掺杂氟离子和金属离子的氧化铈基纳米紫外屏蔽材料及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种掺杂氟离子和金属离子的氧化铈基纳米紫外屏蔽材料及其制备方法,其特征在于这种氧化铈基纳米紫外屏蔽材料化学组成为CexMyOzFw,其中M为二价碱土金属和非铈稀土金属中的至少一种,0.8≤x<1,0<y≤0.2,1.65≤z<2,0<w≤0.3,且化学式CexMyOzFw满足电荷平衡。本发明采用无毒害的碳酸盐为沉淀剂,共沉淀法制备了同时掺杂氟离子和金属离子的氧化铈基纳米紫外屏蔽材料。这种材料可用于纺织品、室外日用品、防晒霜、橡胶、沥青、玻璃、日光灯内涂层、高分子纤维、高分子塑料、涂料、工业和民用油漆等要求对紫外线吸收高、可见光透过高、氧化催化活性低的材料和制品。 |
申请公布号 |
CN102559138A |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201010620843.3 |
申请日期 |
2010.12.23 |
申请人 |
北京有色金属研究总院;有研稀土新材料股份有限公司 |
发明人 |
龙志奇;戴艳;侯永可;黄小卫;崔大立;赵娜 |
分类号 |
C09K3/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
C09K3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 |
代理人 |
郭佩兰 |
主权项 |
一种掺杂氟离子和金属离子的氧化铈基纳米紫外屏蔽材料,其特征在于,其化学组成为CexMyOzFw,其中M为二价碱土金属和非铈稀土金属中的至少一种,0.8≤x<1,0<y≤0.2,1.65≤z<2,0<w≤0.3,且化学式CexMyOzFw满足电荷平衡。 |
地址 |
100088 北京市新街口外大街2号 |