| 发明名称 | 纳米粒子的产生 | ||
| 摘要 | 已经发现脉冲DC电源出乎意料地有益于用于生成纳米粒子的溅射沉积的用途。沉积率提高了，并且可以调节粒子尺寸以使其大约以特定值而簇生。因此，公开了一种溅射沉积的方法，包括步骤：提供磁控管、溅射靶、和用于所述磁控管的AC电源或脉冲DC电源；将粒子从所述溅射靶溅射到包含惰性气体的腔室中，使得粒子聚结成为纳米粒子；和控制所述AC电源或所述脉冲DC电源的频率以取得多个频率值中的一个，每个频率值对应于所述纳米粒子的一个对应的尺寸分布。电源频率优选的在75kHz到150kHz之间，因为这看来可以得到最佳结果。还公开了用于产生纳米粒子的相应设备。 | ||
| 申请公布号 | CN102576641A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201080047189.X | 申请日期 | 2010.09.17 |
| 申请人 | 曼蒂斯沉积物有限公司 | 发明人 | 基恩·阿利斯泰尔 |
| 分类号 | H01J37/34(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;B22F9/02(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 陈源;张天舒 |
| 主权项 | 一种产生纳米粒子的方法，包括步骤：提供磁控管、溅射靶、和用于所述磁控管的AC电源或脉冲DC电源；将粒子从所述溅射靶溅射到包含惰性气体的腔室中，使得粒子聚结成为纳米粒子；和控制所述AC电源或所述脉冲DC电源的频率以取得多个频率值中的一个，每个频率值对应于所述纳米粒子的一个对应的尺寸分布。 | ||
| 地址 | 英国牛津郡 | ||