发明名称 |
透明导电层的溅射靶材构造 |
摘要 |
本实用新型公开一种透明导电层的溅射靶材构造,包含一板状部、二短边厚度变化端部及二长边厚度变化边部。其中所述短边厚度变化端部的厚度大于所述板状部的厚度;以及所述长边厚度变化边部的厚度小于所述板状部的厚度。另外,所述短边厚度变化端部具有一非平面状的短边端面。本实用新型的所述透明导电层的溅射靶材构造依据材料实际的消耗情况,在不同的部位设计不同的厚度变化方案,以减少所述溅射靶材在使用过程中材料的浪费,从而节省透明导电层的制作成本。 |
申请公布号 |
CN202322993U |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201120462142.1 |
申请日期 |
2011.11.21 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
陈林 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 |
代理人 |
欧阳启明 |
主权项 |
一种透明导电层的溅射靶材构造,其特征在于:所述溅射靶材构造包含一中央板状部、二短边厚度变化端部及二长边厚度变化边部;其中所述短边厚度变化端部的厚度大于所述中央板状部的厚度;所述长边厚度变化边部的厚度小于所述中央板状部的厚度;以及所述中央板状部、所述二短边厚度变化端部及所述二长边厚度变化边部的上表面为同平面设置。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 |