发明名称 |
存储装置及其制造方法和存储器阵列及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了存储装置及其制造方法和存储器阵列及其制造方法。在存储装置中,存储开关结构形成在第一电极和第二电极之间。存储开关结构包括存储电阻器和开关结构。开关结构控制提供到存储电阻器的电流。存储电阻器的存储区域和开关结构的开关区域彼此不同。 |
申请公布号 |
CN101325213B |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN200810110172.9 |
申请日期 |
2008.06.13 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
安承彦;李明宰;金锡必;朴永洙 |
分类号 |
H01L27/24(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 |
代理人 |
韩明星;邱玲 |
主权项 |
一种存储装置,包括:第一电极;第二电极;开关存储结构,布置在第一电极和第二电极之间,开关存储结构包括:存储电阻器,开关结构,布置在第一电极和存储电阻器之间,开关结构被构造为控制提供到存储电阻器的电流,开关结构的开关区域的尺寸大于存储电阻器的存储区域的尺寸,中间电极,形成在存储电阻器和开关结构之间,其中,开关区域为开关结构与第一电极和中间电极重叠的区域,存储区域为存储电阻器与中间电极和第二电极重叠的区域,中间电极具有接触塞,接触塞一体地形成在中间电极上,使得中间电极经过接触塞接触存储电阻器。 |
地址 |
韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416 |