| 发明名称 | 真空机械手和晶片处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种真空机械手和晶片处理系统。该真空机械手包括：固定底座和设置于所述固定底座上的至少三个可伸缩的机械手，所述机械手的一端连接于所述固定底座上，所述机械手的另一端连接有托盘，且所述固定底座为所述机械手旋转移动的中心。本发明提供的真空机械手和晶片处理系统中，真空机械手包括固定底座和设置于固定底座上的至少三个可伸缩的机械手，机械手的一端连接于所述固定底座上，机械手的另一端连接有托盘，固定底座转动以带动机械手移动。本发明中的真空机械手包括至少三个机械手，增加了同时进行工艺处理的反应腔室的数量，缩短了反应腔室的空闲时间，从而提高了反应腔室的使用效率，提高了晶片的产出率。 | ||
| 申请公布号 | CN102569140A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201010610647.8 | 申请日期 | 2010.12.17 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 宗令蓓 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;B25J9/08(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 张天舒;陈源 |
| 主权项 | 一种真空机械手，其特征在于，包括：固定底座和设置于所述固定底座上的至少三个可伸缩的机械手，所述机械手的一端连接于所述固定底座上，所述机械手的另一端连接有托盘，且所述固定底座为所述机械手旋转移动的中心。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 | ||