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发明名称 METHODS FOR HIGH TEMPERATURE DEPOSITION OF AN AMORPHOUS CARBON LAYER
摘要
申请公布号 KR101161912(B1) 申请公布日期 2012.07.09
申请号 KR20080098739 申请日期 2008.10.08
申请人 发明人
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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