发明名称 SODIUM SALT CONTAINING CIG TARGETS, METHODS OF MAKING AND METHODS OF USE THEREOF
摘要 A sputtering target includes at least one metal selected from copper, indium and gallium and a sodium containing compound.
申请公布号 WO2012054467(A3) 申请公布日期 2012.07.05
申请号 WO2011US56689 申请日期 2011.10.18
申请人 MIASOLE;JULIANO, DANIEL R.;TAS, ROBERT;MACKIE, NEIL M.;ZIANI, ABDELOUAHAB 发明人 JULIANO, DANIEL R.;TAS, ROBERT;MACKIE, NEIL M.;ZIANI, ABDELOUAHAB
分类号 C23C14/34;H01L31/042;H01L31/18 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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