双片或双面镀膜系统

摘要

本发明公开一种双片或双面镀膜系统，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。本双片或双面镀膜系统采用多个真空室直线排列设置，且各镀膜室均在其两侧的室门上设置磁控溅射靶，可实现对单个工件的两面或两个工件同时镀膜，使镀膜生产线的生产效率有效得到提高；同时，将各磁控溅射靶设于室门上，可方便设备维护，磁控溅射靶的安装也简单。

主权项

双片或双面镀膜系统，其特征在于，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。