用于产生均匀的处理速率的方法和设备

摘要

本发明涉及用于产生均匀的处理速率的方法和设备，其中一种用于在等离子体处理设备的处理腔室的腔室壁内的等离子体产生区域中产生射频场分布的天线装置，其包括：射频电感天线，射频电源连接到其上，以供应射频电流来产生延伸进入等离子体产生区域内的第一射频场；及无源天线，无源天线电感性耦合到射频电感天线并且配置为产生第二射频场来修改第一射频场，使得在等离子体产生区域的射频场分布与没有无源天线时相比增加了处理设备的处理均匀性，其中，无源天线提供电传导路径，感应电流可以在该路径上流动，以产生至少一部分第二射频场。

主权项

一种用于在等离子体处理设备的处理腔室的腔室壁内的等离子体产生区域中产生射频场分布的天线装置，其包括；射频电感天线，射频电源连接到其上，以供应射频电流来产生延伸进入等离子体产生区域内的第一射频场；及无源天线，无源天线电感性耦合到射频电感天线并且配置为产生第二射频场来修改第一射频场，使得在等离子体产生区域的射频场分布与没有无源天线时相比增加了处理设备的处理均匀性，其中，无源天线提供电传导路径，感应电流可以在该路径上流动，以产生至少一部分第二射频场，其中，无源天线具有至少部分地围绕射频电感天线的一部分延伸的通道形状。