发明名称 |
一种二氧化硅、其制备方法以及其应用 |
摘要 |
本发明涉及一种二氧化硅及其制备方法以及其在漆中的应用,采用所述消光剂得到的漆具有消光效率高、透明性好、贮存性好和手感光滑等优点。所述二氧化硅的特征在于:孔容:0.5-2.0cm3/g;BET:100-380m2/g;DBP吸收值 200-350g/100g;d50 :4-15μm;并且100×ρ×孔容/DBP吸收值≥0.50,其中,各符号意义如说明书所述。 |
申请公布号 |
CN101481115B |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN200910006014.3 |
申请日期 |
2009.01.22 |
申请人 |
北京航天赛德科技发展有限公司 |
发明人 |
李宝德;郑连营;操应军;张忆;靳桂茵;樊新华;裴亚利 |
分类号 |
C01B33/12(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京北翔知识产权代理有限公司 11285 |
代理人 |
钟守期;唐铁军 |
主权项 |
一种二氧化硅,其中,孔容 0.5‑2.0cm3/g;BET 100至小于250m2/g;DBP吸收值 250‑280g/100g;d50 4‑15μm;并且100×ρ×孔容/DBP吸收值≥0.55,其中,DBP为邻苯二甲酸二丁酯;DBP吸收值为二氧化硅吸收DBP的量,单位为g/100g二氧化硅;ρ为DBP的密度,为1.045g/cm3;孔容指二氧化硅的孔容,单位为cm3/g二氧化硅;但是,不包括孔容为1.8cm3/g且DBP吸收值为2.0或2.5ml/g的二氧化硅。 |
地址 |
100097 北京市海淀区蓝靛厂南路59号23号楼2层 |