发明名称 |
照明光学装置、显微光刻投射系统及装置制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种照明光学装置、显微光刻投射系统及装置制造方法。该照明光学装置包括:偏振调制光学元件,其由具有旋光性的光学材料制成,且其具有周向变化的厚度;其中所述照明光学装置是用于显微光刻投射系统的照明系统,并被构造以使在使用所述显微光刻投射系统期间,所述照明系统沿着从所述显微光刻投射系统的光源单元到掩模的路径引导光,其中所述偏振调制光学元件位于所述光源单元与所述掩模之间的路径上,且所述偏振调制光学元件被定向在光路上使得入射到所述偏振调制光学元件的不同区域上的光穿过所述光学材料的厚度不同。 |
申请公布号 |
CN101799637B |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201010155325.9 |
申请日期 |
2005.01.14 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
发明人 |
D·菲奥尔卡;M·德格恩特尔 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
邱军 |
主权项 |
一种照明光学装置,包括:偏振调制光学元件,其由具有旋光性的光学材料制成,且其具有周向变化的厚度;其中所述照明光学装置是用于显微光刻投射系统的照明系统,并被构造以使在使用所述显微光刻投射系统期间,所述照明系统沿着从所述显微光刻投射系统的光源单元到掩模的路径引导光,其中所述偏振调制光学元件位于所述光源单元与所述掩模之间的路径上,且所述偏振调制光学元件被定向在光路上使得入射到所述偏振调制光学元件的不同区域上的光穿过所述光学材料的厚度不同,其中因为线性偏振光沿所述具有旋光性的光学材料的光轴传播,电场矢量的振荡平面依照量值与所述线性偏振光在所述具有旋光性的光学材料内传播的距离成比例的角度被旋转,并且其中所述光学材料为石英。 |
地址 |
德国上科亨 |