发明名称 | 镀钯及镀钯合金之高速方法 | ||
摘要 | 本发明揭示一种镀钯及镀钯合金之高速方法。具体涉及沉积钯及钯合金之高速方法。该高速方法使用水性、具有减少槽中的游离氨之氨基槽。该高速方法可应用在多种基材上,例如电子装置和珠宝上沉积钯和钯合金覆层。 | ||
申请公布号 | CN101348928B | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
申请号 | CN200810086859.3 | 申请日期 | 2008.03.17 |
申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | W·张-伯格林格;M·克劳斯;J·格比;F·J·施瓦格 |
分类号 | C25D3/50(2006.01)I | 主分类号 | C25D3/50(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 朱黎明 |
主权项 | 一种镀钯的高速方法,其包括:a)制备一组合物,其包含一种或多种钯来源,铵离子和尿素,该组合物具有低于50克/升的游离氨浓度,并且组合物中所含的尿素的量为使尿素和游离氨的总量从100克/升至150克/升;b)将一基材与该组合物接触;且c)产生一至少10安培/平方分米的电流密度以便在该基材上沉积钯。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |