曝光制程、像素结构的制造方法及其使用的半调式光掩模

摘要

本发明公开了一种半调式光掩模，适用于一曝光制程中，而形成尺寸均匀的多个光阻图案。此半调式光掩模包括透明基板、以及多个光掩模图案。这些光掩模图案是沿着一设定方向设置于透明基板上，其中，光掩模图案的尺寸是沿着设定方向而渐进变化。因此，即使在大尺寸基板上的不同区域存在曝光精度不相同的情形下，仍可利用渐进补偿方式制作尺寸均匀的光阻图案。另外，使用此半调式光掩模的曝光制程与像素结构的制造方法也被提出。

主权项

一种半调式光掩模，适用于一曝光制程中，而形成尺寸均匀的多个光阻图案，其特征在于，该半调式光掩模包括：一透明基板；以及多个光掩模图案，沿着一设定方向设置于该透明基板上，其中，该些光掩模图案的尺寸是沿着该设定方向而渐进变化，每一该些光掩模图案包括：一半透光区；以及一遮光区，设置于该半透光区的周围；其中，该半透光区的尺寸是沿着该设定方向而渐进变化；当该些光掩模图案的尺寸是沿着该设定方向而渐进变小时，该些半透光区的尺寸是沿着该设定方向而渐进变大，该些遮光区的尺寸是沿着该设定方向而渐进变小；当该些光掩模图案的尺寸是沿着该设定方向而渐进变大时，该些半透光区的尺寸是沿着该设定方向而渐进变小，该些遮光区的尺寸是沿着该设定方向而渐进变大。