发明名称 可控制蒸发气流分布和成分的真空蒸发系统
摘要 本发明涉及一种可控制蒸发气流分布和成分的真空蒸发系统。他包括蒸发枪、高温蒸发坩埚和装有蒸发料的储料罐,所述蒸发枪带有一个上下锥面的喷口,且在喷口内侧安置一个可移动的气流导向塞子,对准所述的喷口前方是待蒸镀的基板,该蒸发枪通过一个加热管道或缓冲瓶与带有交叉挡板的所述高温蒸发坩埚相连,在所述坩埚的另一侧通过一个装有送料阀门的管道与所述储料罐相连;所述蒸发枪、加热管道、高温蒸发坩埚和管道外壁上都有加热线圈,在储料罐外壁上亦有加热线圈;通过送料阀门和管道把储料罐中的蒸发料投放到高温蒸发坩埚中成为进行蒸发的蒸发料瞬间变成蒸发气体而输送至蒸发枪,通过改变气流导向塞子与喷口的相对位置可控制蒸发气体的大小和方向,蒸发到基板上形成设定面积、均匀的、多组分的蒸发薄膜。本发明结构简单,可提高有机蒸发料的利用率,提高生产率。
申请公布号 CN102011096B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010611085.9 申请日期 2010.12.29
申请人 上海大学 发明人 张志林;蒋雪茵;张建华
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 何文欣
主权项 一种可控制蒸发气流分布和成分的真空蒸发系统,包括蒸发枪(3)、高温蒸发坩埚(5)和装有蒸发料(10)的储料罐(9),其特征在于所述蒸发枪(3)带有一个上下锥面的喷口(1),且在喷口(1)内侧安置一个可移动的气流导向塞子(2),待蒸镀的基板(16)对准所述的喷口(1)前方,该蒸发枪(3)通过一个加热管道(4)或缓冲瓶与带有交叉挡板(6)的所述高温蒸发坩埚(5)相连,在所述坩埚(5)的另一侧通过一个装有送料阀门(8)的输料管道(7)与所述储料罐(9)相连;所述蒸发枪(3)、加热管道(4)、高温蒸发坩埚(5)和输料管道(7)外壁上都有加热线圈(13),在储料罐(9)外壁上亦有加热线圈(15);通过送料阀门(8)和输料管道(7)把储料罐(9)中的蒸发料(10)投放到高温蒸发坩埚(5)中进行蒸发的蒸发料(14)瞬间变成蒸发气体而输送至蒸发枪(3),通过改变气流导向塞子(2)与喷口(1)的相对位置可控制蒸发气流的大小和方向,蒸发气体蒸发到基板(16)上形成设定面积的、均匀的、多组分的蒸发薄膜。
地址 200444 上海市宝山区上大路99号
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