发明名称 |
立式扩散炉电器控制系统及控制方法 |
摘要 |
本发明公开了一种立式扩散炉电器控制系统及控制方法,涉及半导体生产技术领域,所述系统包括:中心控制模块,用于根据传输模块和工艺模块发送来的状态信息,对所述传输模块和工艺模块进行控制;所述传输模块,用于控制硅片的传输,记录硅片的状态信息,并将所述硅片的状态信息发送至所述中心控制模块;所述工艺模块,用于根据工艺需求,控制硅片在工艺过程中所需要的温度、气体和气压。本发明通过提出一种新型的立式扩散炉电器控制系统内部的构架,提高了设备自动化程度,同时提高设备运行的可靠性。 |
申请公布号 |
CN102534803A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201210001182.5 |
申请日期 |
2012.01.04 |
申请人 |
北京七星华创电子股份有限公司 |
发明人 |
张芳;张海轮;慕晓航;程朝阳 |
分类号 |
C30B31/18(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
C30B31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
王莹 |
主权项 |
一种立式扩散炉电器控制系统,其特征在于,所述系统包括:中心控制模块、传输模块和工艺模块,所述中心控制模块,用于根据所述传输模块和工艺模块发送来的状态信息,对所述传输模块和工艺模块进行控制;所述传输模块,用于控制硅片的传输,记录硅片的状态信息,并将所述硅片的状态信息发送至所述中心控制模块;所述工艺模块,用于根据工艺需求,控制硅片在工艺过程中所需要的温度、气体和压力,并将工艺过程中的当前温度、气体和压力作为工艺过程的状态信息发送至所述中心控制模块。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层 |