发明名称 |
一种微晶Si-Sb<sub>x</sub>Te<sub>1-x</sub>复合相变材料及制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法,该复合相变材料由微晶态的Si和相变材料SbxTe1-x复合而成,其中0.1≦x≦0.9。可以利用PVD形成非晶Si-SbxTe1-x材料,然后在氢气气氛中退火形成微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料,最后加热脱氢完成该材料的制备。本发明的微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料中,微晶Si的存在能有效抑制氧化,阻碍Si与SbxTe1-x的相互扩散,具有更稳定的特性。同时微晶态的Si改变了相变中电流的分布,有利于降低功耗提高寿命,改善相变存储器的操作稳定性。 |
申请公布号 |
CN102534479A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201010591390.6 |
申请日期 |
2010.12.16 |
申请人 |
中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
发明人 |
宋志棠;夏梦姣;饶峰;刘波;封松林 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
李仪萍 |
主权项 |
一种微晶Si‑SbxTe1‑x复合相变材料,其特征在于:由微晶态的Si和相变材料SbxTe1‑x复合而成,其中0.1≤x≤0.9。 |
地址 |
200050 上海市长宁区长宁路865号 |