发明名称 一种微晶Si-Sb<sub>x</sub>Te<sub>1-x</sub>复合相变材料及制备方法
摘要 本发明公开了一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法,该复合相变材料由微晶态的Si和相变材料SbxTe1-x复合而成,其中0.1≦x≦0.9。可以利用PVD形成非晶Si-SbxTe1-x材料,然后在氢气气氛中退火形成微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料,最后加热脱氢完成该材料的制备。本发明的微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料中,微晶Si的存在能有效抑制氧化,阻碍Si与SbxTe1-x的相互扩散,具有更稳定的特性。同时微晶态的Si改变了相变中电流的分布,有利于降低功耗提高寿命,改善相变存储器的操作稳定性。
申请公布号 CN102534479A 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010591390.6 申请日期 2010.12.16
申请人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明人 宋志棠;夏梦姣;饶峰;刘波;封松林
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 李仪萍
主权项 一种微晶Si‑SbxTe1‑x复合相变材料,其特征在于:由微晶态的Si和相变材料SbxTe1‑x复合而成,其中0.1≤x≤0.9。
地址 200050 上海市长宁区长宁路865号
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