发明名称 |
用于提供对准标记的方法、器件制造方法和光刻设备 |
摘要 |
本发明公开了一种用于提供对准标记的方法、器件制造方法和光刻设备。实施例涉及一种用于在衬底上提供一组对准标记的方法,所述方法包括:在衬底的层上对具有一元素尺寸的元素的第一图案进行曝光,并在所述第一图案上方对具有一不同的元素尺寸的元素的第二图案进行曝光。所述第一和第二图案的元素交叠并形成一组对准标记,所述对准标记的边缘由小尺寸元素形成。实施例还涉及设置用于提供这样一组对准标记的光刻设备。实施例还涉及一种用于校准光刻设备以考虑与受热相关的变形的方法。 |
申请公布号 |
CN101526757B |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN200910118572.9 |
申请日期 |
2009.03.04 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
理查德·约翰内斯·弗朗西斯克斯·范哈恩 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种用于在衬底上提供一组对准标记的方法,所述方法包括:在衬底的层的至少一个曝光区域上对第一图案曝光,所述第一图案包括具有第一元素尺寸的一组重复的第一元素;对位于所述第一图案上方的第二图案曝光,所述第二图案包括具有第二元素尺寸的一组重复的第二元素,所述第二元素尺寸不同于所述第一元素尺寸,其中所述第一和第二图案的所述元素至少部分地交叠,并组合形成一组重复的大尺寸的对准标记,以使得所述对准标记在重复方向上的边缘由所述第一元素和所述第二元素中的小尺寸元素形成。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |