| 发明名称 | 制造沟渠隔离结构的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种制造沟渠隔离结构的方法，其在基底中形成沟渠，至少在沟渠中形成衬层，至少在沟渠侧壁上形成前驱层，并使前驱层转变为体积较大且填满沟渠的绝缘层。依照沟渠宽度以及前驱层的材质转变为绝缘层的材质时的体积膨胀比设定前驱层的厚度，即可得无空隙的沟渠隔离结构。 | ||
| 申请公布号 | CN102543827A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201110160408.1 | 申请日期 | 2011.06.15 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 黄仁瑞;蔡鸿明 |
| 分类号 | H01L21/762(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/762(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种制造沟渠隔离结构的方法，包括：在一基底中形成一沟渠；至少在该沟渠中形成一衬层；至少在该沟渠的侧壁上形成一前驱层；以及使该前驱层转变为体积较大且填满该沟渠的绝缘层。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 | ||