发明名称 一种硅片清洗液
摘要 本发明一种硅片清洗液,由表面活性剂、乙醇、氟化氢、EDTA二钠、三乙醇胺、柠檬酸、去离子水,进行搅拌混合,形成清洗液,本发明制备方法简单,对环境无不利影响,且表面去污力强,可保持清洁度的持续性,对于多晶硅片等物料具有良好的清洁效果,并且提高了清洗速度和耐用性能;本发明通过乙醇对硅片表面有机沾污进行清洗,另外,通过氟化氢对氧化层进行清洗,从而,使硅片的清洗更加彻底,且对金属离子有较强的清洗作用,从而,提高了硅片的后续使用性能。
申请公布号 CN102533470A 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201110448381.6 申请日期 2011.12.29
申请人 镇江市港南电子有限公司 发明人 聂金根
分类号 C11D7/26(2006.01)I;C11D7/08(2006.01)I 主分类号 C11D7/26(2006.01)I
代理机构 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 代理人 季萍
主权项 1.一种硅片清洗液,其特征在于,由以下成分组成(按重量份数计):<img file="FDA0000126300520000011.GIF" wi="1092" he="835" />
地址 212211 江苏省镇江市新区大港机电工业园东方路