发明名称 开口容器用电子射线照射装置
摘要 本发明提供即使是低能量的电子射线,也能够均匀地对对象物照射电子射线的电子射线照射方法和电子射线照射装置。因此,在将电子射线照射区域内所产生的多个磁场接合起来而形成的磁场屏障(MF)内,对饮料容器(30)(对象物)照射电子射线(EB)。
申请公布号 CN101297376B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200680028409.8 申请日期 2006.09.21
申请人 日本AE帕瓦株式会社 发明人 江口志郎;桥本勋;佐藤重胜;小出英延;桥本信行;铃木崇之;强崎智;彦坂知行;冈本行夫;藤田裕幸
分类号 G21K5/04(2006.01)I;A23L3/26(2006.01)I;A61L2/08(2006.01)I;B65B55/08(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I 主分类号 G21K5/04(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 黄纶伟
主权项 一种开口容器用电子射线照射装置,其特征在于,该开口容器用电子射线照射装置构成为,在具有降压单元来维持负压状态的照射处理槽的侧面部一体地结合设置前压力调整槽和后压力调整槽,在各所述槽内分别能旋转地配置旋转搬送体,在各所述旋转搬送体的外表面大致等间隔地设置用于保持开口容器的多个保持机构,并且,能够从前压力调整槽侧到后压力调整槽侧,在各旋转搬送体相互之间依次交接开口容器,在所述前压力调整槽和后压力调整槽内的旋转搬送体上分别突出设有多个隔壁,以划分各保持机构,在旋转搬送体移动时,利用各所述隔壁和槽壁面形成多个小分区,该开口容器用电子射线照射装置具有降压单元,该降压单元对从所述前压力调整槽中的开口容器的搬入侧到照射处理槽侧的范围、以及从后压力调整槽中的开口容器的照射处理槽侧到搬出侧的范围的所述小分区进行降压,在所述照射处理槽中配置有至少一个电子射线照射单元。
地址 日本东京