发明名称 |
发光二极管晶粒及其制作方法 |
摘要 |
一种发光二极管晶粒及其制作方法,该制作方法包括在一基板上形成图案化磊晶阻挡层;在图案化磊晶阻挡层上生长n型半导体层,在n型半导体层未完全覆盖图案化磊晶阻挡层时停止生长该n型半导体层;将图案化磊晶阻挡层去除,在原图案化磊晶阻挡层的位置遗留下孔洞;继续在孔洞上生长n型半导体层直至该n型半导体层完全覆盖所述第一组孔洞;在该n型半导体层上形成发光结构。 |
申请公布号 |
CN102544249A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201010618792.0 |
申请日期 |
2010.12.31 |
申请人 |
展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
发明人 |
黄世晟;凃博闵 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种发光二极管晶粒的制作方法,其包括以下步骤:提供一基板,所述基板上形成有第一图案化磊晶阻挡层;在基板具有第一图案化磊晶阻挡层的一面生长第一n型半导体层,在第一n型半导体层未完全覆盖第一图案化磊晶阻挡层时停止生长该第一n型半导体层;将第一图案化磊晶阻挡层去除,在原第一图案化磊晶阻挡层的位置遗留下第一组孔洞;继续在第一组孔洞上生长第一n型半导体层直至该第一n型半导体层完全覆盖所述第一组孔洞;在第一n型半导体层上形成发光结构。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号 |