发明名称 负型感光性材料及电路基板
摘要 本发明的目的在于廉价地提供线性热膨胀系数与成为基板的金属箔同等,感光度优异且能够用碱水溶液显影的负型感光性材料、以及使用该负型感光性材料的电路基板。其解决手段为一种负型感光性材料,相对于具有下述通式(I)的重复单元的聚酰亚胺前驱体100重量份,含有5~30重量份的季铵盐,所述季铵盐为经活性光线照射产生叔胺的光产碱剂,且所述叔胺在分子中分别包含一个以上的氮原子和氧原子。式(I)中,X为4价脂肪族基团或4价芳香族基团,Y为2价脂肪族基团或2价芳香族基团。
申请公布号 CN101784957B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200880103874.2 申请日期 2008.08.29
申请人 三井化学株式会社 发明人 德弘淳;关野裕幸;千田光昭;铃木健司
分类号 G03F7/004(2006.01)I;C08G73/10(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;H05K1/03(2006.01)I;H05K3/28(2006.01)I 主分类号 G03F7/004(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶
主权项 1.一种负型感光性材料,相对于具有下述通式(I)的重复单元的聚酰亚胺前驱体100重量份,含有5~30重量份的季铵盐,所述季铵盐为经活性光线照射产生叔胺的光产碱剂,所述叔胺在分子中分别包含一个以上的氮原子和氧原子、且所述氮原子和所述氧原子构成同一个环,<img file="FSB00000765895200011.GIF" wi="1089" he="300" />式(I)中,X为4价脂肪族基团或4价芳香族基团,Y为2价脂肪族基团或2价芳香族基团。
地址 日本东京都