曝光方法

摘要

本发明提供了一种曝光方法，其包括以下步骤：对光刻版进行曝光，将其上的测试图形曝光后投影到圆片上；调整曝光镜头相对所述光刻版上的x方向移动第一步进距离或相对所述光刻版y方向移动第二步进距离；曝光，并投影缩放到圆片上；其中，所述第一步进距离大于或等于所述测试图形x方向尺寸，且小于所述光刻版x方向尺寸；所述第二步进距离大于或等于所述测试图形y方向尺寸且小于所述光刻版y方向尺寸。与现有技术相比，本发明的有益效果是：减少圆片翘曲对测试点影响，提高测试结果的准确性，同时，还可使用普通圆片进行光刻机像面弯曲度检测，减少或取消了双面抛光片的使用，成本较低。

主权项

一种曝光方法，包括以下步骤：对光刻版进行曝光，将其上的测试图形曝光后投影到圆片上；调整曝光镜头相对所述光刻版上的x方向移动第一步进距离或相对所述光刻版y方向移动第二步进距离；曝光，并投影缩放到圆片上；其中，所述第一步进距离大于或等于所述测试图形x方向尺寸，且小于所述光刻版x方向尺寸；所述第二步进距离大于或等于所述测试图形y方向尺寸且小于所述光刻版y方向尺寸。