发明名称 |
一种真空吸盘装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种真空吸盘装置,其包括马达编码器、旋转马达、吸附一个晶圆的盘体以及与盘体连接的管路段,所述盘体上设有吸附口,所述管路段设有与所述吸附口连通的真空管路,所述盘体的侧壁还设有朝向晶圆边缘的喷射口,所述管路段还设有与喷射口连通的旁路气体管路。本实用新型实施例的真空吸盘装置通过设置朝向晶圆边缘的喷射口以及与喷射口连通的旁路气体管路,借助经过旁路气体管路与喷射口喷射出的气体在晶圆边缘产生的向外的压力,可以有效阻止显影液向晶圆背面流动,进而防止显影液流到真空吸盘和晶圆的交接处,避免晶圆背面以及真空吸盘和晶圆的交接处受到沾污,保证工艺流程的稳定。 |
申请公布号 |
CN202307847U |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201120416542.9 |
申请日期 |
2011.10.27 |
申请人 |
无锡华润上华科技有限公司 |
发明人 |
黄玮 |
分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
常亮;李辰 |
主权项 |
一种真空吸盘装置,其包括马达编码器、旋转马达、吸附一个晶圆(200)的盘体(101)以及与盘体(101)连接的管路段(102),所述盘体(101)上设有吸附口(103),所述管路段(102)设有与所述吸附口(103)连通的真空管路(104),其特征在于:所述盘体(101)的侧壁还设有朝向晶圆(200)边缘的喷射口(105),所述管路段(102)还设有与喷射口(105)连通的旁路气体管路(106)。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |