多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法

摘要

本发明提供一种多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法。一种在被转印体上的抗蚀剂膜上形成具有两个以上不同抗蚀剂残膜值的抗蚀剂图案的多色调光掩模，具有形成有遮光部、透光部和半透光部的转印图案。遮光部是在透明基板上形成遮光膜而成的。透光部是露出透明基板而形成的。半透光部具有由形成在透明基板上的半透光膜构成的正常部、和由形成在透明基板上的修正膜构成的修正部。透光部与修正部之间针对i线～g线的波长光的相位差为80度以下。

主权项

一种多色调光掩模，其通过分别对形成在透明基板上的至少半透光膜和遮光膜进行图案加工，从而具有形成有遮光部、透光部和半透光部的转印图案，通过利用该转印图案对透射的曝光光量进行控制，从而在被转印体上的抗蚀剂膜上形成具有两个以上不同抗蚀剂残膜值的抗蚀剂图案，该多色调光掩模的特征在于，所述遮光部是在所述透明基板上至少形成所述遮光膜而形成的，所述透光部是露出所述透明基板而形成的，所述半透光部具有由形成在所述透明基板上的半透光膜构成的正常部、和由形成在所述透明基板上的修正膜构成的修正部，所述透光部与所述修正部之间针对从波长365nm的i线到波长436nm的g线的波长区域中的波长光的相位差为80度以下。