发明名称 光刻设备和洛伦兹致动器
摘要 本发明公开了一种光刻设备和一种洛伦兹致动器。光刻设备包括用于在第一和第二部分之间在第一方向上产生力的致动器,该致动器包括每一个彼此相对地连接到所述设备的第一部分的第一磁体组件和第二磁体组件,第一磁体组件包括第一主磁体系统和第一辅助磁体系统,第二磁体组件包括第二主磁体系统和第二辅助磁体系统,第一和第二主磁体系统在它们之间沿垂直于第一方向的第二方向限定空间。所述致动器包括连接到第二部分的线圈。第一辅助磁体系统的至少一部分和第二辅助磁体系统的至少一部分之间的距离小于第一主磁体系统和第二主磁体系统之间的最小距离。
申请公布号 CN101713930B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200910204493.X 申请日期 2009.09.29
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 F·A·布恩;H·P·G·J·范阿格特玛尔
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H02N11/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种光刻设备,包括:照射系统,其配置用以调节辐射束;支撑结构,其构造用于支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束,以形成图案化的辐射束;衬底台,其构造用于保持衬底;投影系统,其配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上;和致动器,其配置用于在所述设备的第一和第二部分之间产生沿第一方向的力,所述致动器包括:第一磁体组件和第二磁体组件,每一个磁体组件彼此相对地连接到所述设备的第一部分,所述第一磁体组件包括第一主磁体系统和第一辅助磁体系统,并且所述第二磁体组件包括第二主磁体系统和第二辅助磁体系统,所述第一和第二主磁体系统在它们之间沿基本上垂直于所述第一方向的第二方向限定空间,其中所述第一和第二磁体组件以海尔贝克构造布置,以提供磁场,所述磁场的至少一部分基本上沿所述第二方向,导电元件,其连接到所述设备的所述第二部分并且至少部分地布置在所述第一和所述第二主磁体系统之间的所述空间中,以便通过由导电元件承载的电流与所述磁场的相互作用产生力,其中所述第一辅助磁体系统的至少一部分与所述第二辅助磁体系统的至少一部分之间的距离小于所述第一主磁体系统和所述第二主磁体系统之间的最小距离。
地址 荷兰维德霍温