| 发明名称 | 微结构体及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种制备微结构体的方法和通过所述方法制备的微结构体，在所述方法中，对铝衬底依次进行以下步骤：(1)对铝衬底的表面进行第一阳极化处理，以在铝衬底的表面上形成具有微孔的阳极化膜的步骤；(2)使用酸或碱部分地溶解所述阳极化膜的步骤；(3)进行第二阳极化处理，以使微孔在它们的深度方向上生长的步骤；和(4)除去在微孔横截面中的拐点之上的部分阳极化膜的步骤，从而得到具有形成在所述阳极化膜的表面上的微孔的微结构体。所述方法能够在短的时期内得到具有有序排列的凹坑的微结构体，而没有使用高毒性的铬(VI)酸。 | ||
| 申请公布号 | CN101255588B | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN200710160319.0 | 申请日期 | 2007.12.19 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 畠中优介;堀田吉则 |
| 分类号 | C25D11/04(2006.01)I;C25D11/12(2006.01)I | 主分类号 | C25D11/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 陈平 |
| 主权项 | 一种制备微结构体的方法，其中对铝衬底依次进行以下步骤：(1)对铝衬底的表面进行第一阳极化处理，以在铝衬底的表面上形成具有微孔的阳极化膜的步骤；(2)使用酸或碱部分地溶解所述阳极化膜的步骤；(3)进行第二阳极化处理，以使所述微孔在它们的深度方向上生长的步骤；和(4)除去在所述微孔横截面中的拐点之上的部分阳极化膜的步骤，从而得到具有形成在所述阳极化膜的表面上的微孔的微结构体，其中将所述步骤(3)和(4)以此顺序重复进行两次或更多次。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||