一种CVD镀膜装置

摘要

一种CVD镀膜装置，其特征在于：镀膜腔室的至少一部分由有机薄膜构成，所述有机薄膜的厚度在100-200μm之间；在所述有机薄膜处设有X射线发射部件和X射线检测部件；能够通过检测X射线荧光，实时对气体的成分浓度做出分析，从而保证气体随时处于最佳的成分浓度，以保证镀膜的质量处于最佳。

主权项

一种CVD镀膜装置，其具有镀膜腔室，其特征在于：所述镀膜腔室的至少一部分由有机薄膜构成，所述有机薄膜的厚度在100‑200μm之间；在所述有机薄膜处设有X射线发射部件和X射线检测部件，所述X射线发射部件相对于所述有机薄膜倾斜设置使得其射出的X射线与所述有机薄膜形成夹角α，且20°＜α＜70°，所述X射线检测部件与所述有机薄膜平行设置。