发明名称 |
发光二极管芯片结构及其制造方法 |
摘要 |
一种发光二极管芯片结构及其制造方法,发光二极管芯片结构包括导电基板、半导体堆栈层以及图案化种晶层。导电基板具有一表面,此表面具有第一区及第二区,其中第一区与第二区交替分布于此表面。半导体堆栈层配置于导电基板上,且导电基板的表面朝向半导体堆栈层。图案化种晶层配置于导电基板的表面的第一区上,且位于导电基板与半导体堆栈层之间。图案化种晶层将第一区与半导体堆栈层分隔,且暴露出第二区。半导体堆栈层覆盖图案化种晶层与第二区,且经由第二区与导电基板电性连接。 |
申请公布号 |
CN102544273A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201110347763.X |
申请日期 |
2011.11.07 |
申请人 |
隆达电子股份有限公司 |
发明人 |
陈俊荣;郭奇文;黄坤富;朱瑞溢;方国龙 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种发光二极管芯片结构,包括:一导电基板,具有一表面,其中该表面具有一第一区及一第二区,该第一区与该第二区交替分布于该表面;一半导体堆栈层,配置于该导电基板上,且该导电基板的该表面朝向该半导体堆栈层;以及一图案化种晶层,配置于该导电基板的该表面的该第一区上,且位于该导电基板与该半导体堆栈层之间,其中该图案化种晶层将该第一区与该半导体堆栈层分隔,且暴露出该第二区,该半导体堆栈层覆盖该图案化种晶层与该第二区,且经由该第二区与该导电基板电性连接。 |
地址 |
中国台湾新竹市科学园区工业东三路3号 |