| 发明名称 |
Procédé pour déposer par évaporation des couches de silicium monocristallines sur des supports en silicium monocristallin |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
FR1340511(A) |
申请公布日期 |
1963.10.18 |
| 申请号 |
FR19620916884 |
申请日期 |
1962.11.28 |
| 申请人 |
SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
|
| 分类号 |
C01B33/02;C23C14/32;C30B23/06;H01L21/203 |
主分类号 |
C01B33/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
