发明名称 OPTICAL ARRANGEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
摘要 본 발명은 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치에 관한 것이며, 상기 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 장치는 적어도 하나의 광학 요소(110, 210) 및 상기 광학 요소(110, 210)에 대한 지지 요소(120, 220)를 포함하며, 상기 광학 요소(110, 210) 및 상기 지지 요소(120, 220)는 적어도 3개의 디커플링 요소(131, 132, 133; 231, 232, 233)에 의해 서로 연결되고, 상기 디커플링 요소(131, 132, 133; 231, 232, 233)는 상기 광학 요소(110, 210) 및 상기 지지 요소(120, 220)와 모놀리식으로 형성된다.
申请公布号 KR20120073309(A) 申请公布日期 2012.07.04
申请号 KR20127011013 申请日期 2010.09.23
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 SCHOPPACH ARMIN;MANN HANS JURGEN;EISERT FRANK;KWAN YIM BUN PATRICK
分类号 G03F7/20;G02B7/182;G03B7/02 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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