磁记录介质、其制造方法及磁记录再生装置

摘要

本发明涉及用于磁盘装置等上的磁记录介质及其制造方法。本发明提供微细图案形成生产效率较高、制造成本较低且无图案尺寸精度劣化的磁记录介质的制造方法。该方法是，在衬底或加工层(70)上形成保护膜层(71)，并以衬底的转动中心为基准点将上述衬底表面分割成两个以上的区域。利用光学非接触方式的图案复制方法，借助于掩模(73)将包括在分割区域(72)中的图形图案复制到保护膜层(74)上而形成图形图案的潜影(75b)。针对分割区域(76)也同样进行图案复制。对每一个分割区域的图案复制全部结束后，使保护膜层(71)同时显影而形成保护膜图案(79)并将其作为掩模而切削加工衬底或加工层(70)。其结果，得到复制有微细图案(N)的衬底或被加工层(P)。

主权项

一种磁记录介质的制造方法，上述磁记录介质具备具有凹凸图案构造的磁记录层，其特征在于，包括：在具有转动中心的圆盘状衬底上或在包括形成于该衬底上的金属层或非金属层的加工层上形成保护膜层的工序；以上述转动中心为基准点将上述衬底表面分割成多个分割区域，利用光学非接触方式的图案复制方法对各个分割区域的保护膜层顺序复制形成有与该分割区域对应的数据区域和伺服区域图案的掩模图案的潜影的工序；使上述保护膜层显影而在整个上述保护膜层形成保护膜图案的工序；以及将上述保护膜图案作为掩模而切削加工上述衬底表面或形成于上述衬底上的加工层的工序，其中，上述光学非接触方式的图案复制方法是光刻法。