发明名称 |
用于处理多孔衬底的过程 |
摘要 |
本发明涉及用于处理多孔衬底的过程。一种用于在使介质暴露于会修改介质的至少一个属性的流体的处理期间支承多孔介质的过程和相关联的组件。该组件包括支承芯体。介质在芯体的周围包绕成多个层而形成介质的第一卷体。该组件包括在第一卷体的端部上施加径向压力的第一固定机构,以防止流体流沿轴向离开第一卷体的端部。额外的量的介质在第一卷体的周围包绕成多个层而形成介质的第二卷体。该组件包括在第二卷体的端部上施加径向压力的第二固定机构,以防止流体流沿轴向离开第二卷体的端部。该组件可为装备的一部分。 |
申请公布号 |
CN102532571A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201110295575.7 |
申请日期 |
2011.09.16 |
申请人 |
BHA控股公司 |
发明人 |
M·G·哈特菲尔德 |
分类号 |
C08J7/00(2006.01)I;C08J7/02(2006.01)I;C08L27/18(2006.01)I |
主分类号 |
C08J7/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
李强;谭祐祥 |
主权项 |
一种用于在处理期间支承多孔介质(24)的过程,所述处理通过使流体流动(F)通过所述介质(24)来使所述介质(24)暴露于会修改所述介质(24)的至少一个属性的所述流体,所述过程包括:提供沿着轴线延伸的穿孔支承芯体(58);将所述介质(24)在所述芯体的周围包绕成多个层而形成所述介质(24)的第一卷体(60);在所述第一卷体(60)的各个端部处应用第一固定机构(62),以在所述第一卷体(60)的端部上施加径向压力,以防止流体流沿轴向离开所述第一卷体(60)的端部;将额外的量的所述介质(24)在所述第一卷体(60)的周围包绕成多个层而形成所述介质(24)的第二卷体(64);以及在所述第二卷体(64)的包绕层的各个端部处应用第二固定机构(66),以在所述第二卷体(64)的端部上施加径向压力,以防止流体流沿轴向离开所述第二卷体(64)的端部。 |
地址 |
美国密苏里州 |