| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明揭示一种新的用于多晶硅的化学机械抛光液，这种抛光液包括研磨颗粒、至少一种唑类化合物和至少一种多元醇型非离子表面活性剂，这种抛光液可调节多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102533125A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201010620152.3 | 申请日期 | 2010.12.30 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包括研磨颗粒、至少一种唑类化合物和至少一种多元醇型非离子表面活性剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||