发明名称 中子射线旋转照射装置
摘要 提供一种能够实现小型化的中子射线旋转照射装置。中子射线旋转照射装置(1)具有:中子产生部(2),具有被照射离子束而产生中子的靶(7);使中子減速的減速构件(9);设置在中子产生部(2)的出射侧的准直器(3);用于使离子束偏转的2个偏转电磁铁(4、5);输送离子束的束管(6)。连通靶收容部(10)和束管(6C)的连通口(10a)配置在比靶收容部(10)的顶部(10b)更低的位置,离子束对靶(7)的照射方向(F1)和中子的射出方向(F2)所成的角度α是90°。
申请公布号 CN101829409B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200910127387.6 申请日期 2009.03.13
申请人 住友重机械工业株式会社 发明人 密本俊典
分类号 A61N5/10(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 许玉顺;胡建新
主权项 一种中子射线旋转照射装置,设置为能够相对于被照射体自由旋转,并且能够对上述被照射体照射中子射线,其特征在于,具备:中子产生部,该中子产生部具有被照射离子束而产生中子的靶以及对从上述靶产生的中子进行减速的减速构件;准直器,设置在上述中子产生部的出射侧;偏转电磁铁,使向上述靶照射的离子束偏转;束管,将离子束输送至上述靶;以及旋转架,上述中子产生部、上述偏转电磁铁和上述束管固定在该旋转架上,上述准直器设有射出口,该射出口用于将被上述减速构件减速后的中子向被照射体侧射出,离子束对上述靶的照射方向和中子的射出方向所成的角度在45°~150°的范围内。
地址 日本东京都