发明名称 等离子体增强化学气相沉积装置
摘要 一种等离子体增强化学气相沉积装置,包括:腔体,包括位于其顶部的进气口;电源,位于腔体外用于提供射频信号;气体扩散板组件,位于腔体内进气口下方且接地;上电极,位于腔体内气体扩散板组件的下方,上电极上设置有射频信号输入点,电源通过射频信号输入点向上电极加载射频信号;下电极,位于腔体底部且接地,与上电极相配合形成位于上电极和下电极之间的等离子体;上电极和下电极间形成等离子体等效电容器;上电极和气体扩散板之间形成调节等效电容器,调节等效电容器与等离子体等效电容器并联,调节等效电容器的电容区域分布与施加于上电极的射频信号的功率密度区域分布相匹配。本发明技术方案可降低成本、简化装配、提高寿命。
申请公布号 CN101974739B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010551488.9 申请日期 2010.11.19
申请人 理想能源设备有限公司 发明人 陈金元;马哲国;董家伟;刘传生;杨飞云
分类号 C23C16/505(2006.01)I 主分类号 C23C16/505(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种等离子体增强化学气相沉积装置,包括:腔体,包括位于其顶部的进气口,所述腔体连接于地端;电源,位于所述腔体外,用于产生激发等离子体的射频信号;气体扩散板组件,位于所述腔体内进气口下方,用于均匀从所述进气口进入所述腔体的反应气体,所述气体扩散板组件至少包含一与所述腔体等电位的气体扩散板;上电极,位于所述腔体内所述气体扩散板组件的下方,所述上电极上设置有射频信号输入点,所述电源通过所述射频信号输入点向所述上电极注入射频信号;下电极,位于所述腔体底部且接地,与所述上电极相对设置;其特征在于,所述上电极和所述下电极之间形成有等离子体等效电容器;所述上电极和所述气体扩散板之间形成有调节等效电容器,所述调节等效电容器与所述等离子体等效电容器并联,所述调节等效电容器的电容与施加于所述上电极的射频信号相匹配,用以调节在所述上电极与所述下电极之间的等离子体的均匀分布。
地址 英属维尔京群岛托托拉岛罗德城三一会4301