光刻机曝光方法

摘要

本发明提供了一种光刻机曝光方法，用于扫描步进光刻机，其中，包括以下步骤：第一步、将狭缝状镜头沿光刻版载物台和圆片载物台的扫描方向倾斜一定角度，使得通过狭缝状镜头投影到圆片上的光线的焦距是递变的；第二步、扫描所述光刻版载物平台和所述圆片载物平台进行曝光。与现有技术相比，本发明的有益效果是：只完成一次曝光，即可相当于常规的多焦距重复曝光，方便快捷；且焦距范围是连续线形变化，在焦深范围内，曝光图形对比度更加均匀，可以获得更大的工艺窗口。

主权项

一种光刻机曝光方法，用于扫描步进光刻机，其特征在于，包括以下步骤：第一步、将狭缝状镜头沿光刻版载物台和圆片载物台的扫描方向倾斜一角度，使得通过狭缝状镜头投影到圆片上的光线的焦距是递变的；第二步、扫描所述光刻版载物平台和所述圆片载物平台进行曝光。