| 发明名称 | 处理基底的设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种处理基底的设备，该设备包括：处理室，包括反应空间，在反应空间内，放置将被处理的基底和形成等离子体；铁氧体磁芯，包括多个设置在反应空间外部的柱和连接器，以跨过多个柱面向反应空间并使多个柱相互连接；线圈，缠绕在多个柱的周围；电源单元，向线圈提供电源。 | ||
| 申请公布号 | CN1901772B | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN200610106324.9 | 申请日期 | 2006.07.19 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 全尚珍;朴钟录;史升烨;梁姬全;李根硕 |
| 分类号 | H05H1/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 郭鸿禧;韩素云 |
| 主权项 | 一种处理基底的设备，包括：处理室，包括反应空间，在反应空间内，放置将被处理的基底和形成等离子体；铁氧体磁芯，包括多个设置在所述反应空间外部的柱和连接器，所述连接器跨过所述多个柱面向所述反应空间并使所述多个柱相互连接；线圈，缠绕在所述多个柱的周围；电源单元，向所述线圈提供电源，其中，所述连接器包括内连接器和围绕所述内连接器的外连接器。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市灵通区梅滩3洞416 | ||