发明名称 主动控制弧斑的电弧蒸发源及使用该蒸发源的设备
摘要 本发明涉及一种主动控制弧斑的电弧蒸发源及使用该电弧蒸发源的真空电弧离子镀设备。所述电弧蒸发源包括引弧机构、靶材固定杆、小线圈、外绝缘套、靶座、大线圈、靶材、小磁场极轴等。本发明的真空电弧离子镀设备包括挂架、真空室、电弧蒸发源和与真空获得系统。使用本发明电弧蒸发源与真空电弧离子镀膜设备能够大大减少涂层中的大颗粒数,不仅如此,最大颗粒直径也大大降低,这样,使用本发明的设备可以提高加工工件使用寿命3至10倍,可以显著地降低生产成本,提高生产效率,改善产品质量。
申请公布号 CN101928922B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201010274859.3 申请日期 2010.09.08
申请人 姜文 发明人 姜文;任大海
分类号 C23C14/32(2006.01)I 主分类号 C23C14/32(2006.01)I
代理机构 北京君智知识产权代理事务所 11305 代理人 孙彦
主权项 一种主动控制弧斑的电弧蒸发源,所述电弧蒸发源包括用于固定靶材(8)的靶材固定杆(2)和靶座(5),靶材固定杆(2)在靶座(5)内腔中,其特征在于在靶座(5)内腔中靶材固定杆(2)径向两侧设置小磁场极轴(9),在靶座(5)内腔中小磁场极轴(9)径向外侧设置一组小线圈(3),在靶座(5)内腔中小线圈(3)径向外侧设置水冷套(10),小磁场极轴(9)与水冷套(10)固定在一起,在小线圈(3)远离靶材(8)的一侧和水冷套(10)径向外侧设置小线圈极靴(12),小线圈极靴(12)、小磁场极轴(9)和小线圈(3)形成开口面向靶材(8)的小线圈磁场,在靶座(5)径向外侧设置大线圈(6),所述大线圈(6)是由缠绕着导线的导磁金属桶构成的,所述导磁金属桶两端设有法兰,所述法兰是由非导磁体构成的;靶材端面位于小磁场场强达到范围内,并保障靶材端面水平磁场大于50高斯;所述的电弧蒸发源工作时,小线圈(3)和大线圈(6)的中心磁场极性相反。
地址 100080 北京市海淀区稻香园小区10号楼1门2单元401