发明名称 |
一种低光泽耐划痕聚丙烯材料及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种低光泽耐划痕聚丙烯材料及其制备方法,所述低光泽耐划痕聚丙烯材料包括以下重量百分比的组分:聚丙烯77~90,增韧剂POE0~15,二氧化硅母粒4~16,抗氧剂0.1~2,光稳定剂0.1~1以及其他添加剂0.1~3。其制备方法是先采用线性低密度聚乙烯为基体树脂,将其与纳米二氧化硅共混制得母粒,然后将聚丙烯、二氧化硅母粒、抗氧剂、光稳定剂、其他助剂等按比例混合,在双螺杆挤出机中熔融挤出、造粒。本发明的优点是制备工艺简单、无环境污染,制备的聚丙烯材料具有良好的低光泽性能和耐划痕性能,同时材料仍然具有良好的力学性能。 |
申请公布号 |
CN102532686A |
申请公布日期 |
2012.07.04 |
申请号 |
CN201010602053.2 |
申请日期 |
2010.12.23 |
申请人 |
上海普利特复合材料股份有限公司 |
发明人 |
康兴宾;张鹰;张祥福;周文 |
分类号 |
C08L23/12(2006.01)I;C08L53/00(2006.01)I;C08L23/08(2006.01)I;C08K13/06(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;B29B9/06(2006.01)I;B29C47/92(2006.01)I |
主分类号 |
C08L23/12(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种低光泽耐划痕聚丙烯材料,其特征在于,组分包括:聚丙烯 77~90重量份;增韧剂 0~15重量份;二氧化硅母粒 4~16重量份;抗氧剂 0.1~2重量份;光稳定剂 0.1~1重量份;所述二氧化硅母粒由线性低密度聚乙烯为基体树脂与表面经过硅烷偶联剂处理的纳米二氧化硅共混挤出制得。 |
地址 |
201707 上海市青浦区工业园区新业路558号 |