用于光刻机测试的套刻测试图形及光刻机的测试方法

摘要

本发明涉及一种用于光刻机测试的套刻测试图形，包括内侧图形区域和外侧图形区域，内侧图形区域包括两条内侧条状图形，外侧图形区域包括两条外侧条状图形，两条内侧条状图形各与两条外侧条状图形中的一条平行；内侧图形区域和外侧图形区域中至少有一条状图形包括多条相互平行的分割条，多条相互平行的分割条两两之间形成多个间距，间距逐渐递增或递减，最宽的间距大于待测光刻机的最小分辨率，分割条的宽度大于待测光刻机的最小分辨率。本发明还涉及一种光刻机的测试方法。本发明通过测试套刻测量值来间接得到光刻机的WIS分辨率和最佳焦距。因为套刻测试仪价格便宜，不是生产中的关键瓶颈设备，因此提高了生产效率，降低了生产成本。

主权项

一种用于光刻机测试的套刻测试图形，包括内侧图形区域和外侧图形区域，所述内侧图形区域包括两条内侧条状图形，所述外侧图形区域包括两条外侧条状图形，所述两条内侧条状图形各与所述两条外侧条状图形中的一条平行；其特征在于，所述内侧图形区域和外侧图形区域中至少有一条状图形包括多条相互平行的分割条，所述多条相互平行的分割条两两之间形成多个间距，所述间距逐渐递增或递减，最宽的所述间距大于待测光刻机的最小分辨率，所述分割条的宽度大于待测光刻机的最小分辨率。