| 发明名称 | 制备热障涂层结构的方法 | ||
| 摘要 | 为了在基材表面上制备热障涂层结构(10)，提供具有等离子体炬(4)的工作腔室(2)，等离子体射流(5)这样产生：等离子体气体被引导穿过等离子体炬(4)并在那里通过电气体放电、电磁感应或微波加热，并且等离子体射流(5)被导向至该引入工作腔室中的基材(3)的表面。为了制备热障涂层，在等离子体炬(4)和基材(3)之间另外施加电压以在等离子体炬(4)和基材(3)之间产生电弧并且通过该电弧清洁该基材表面，其中在电弧清洁后该基材(3)保持在工作腔室中并且在经清洁的基材表面上产生具有0.02μm至2μm厚度的氧化物层(11)，和在附加步骤中通过等离子体喷涂方法施加热障涂层(12)。 | ||
| 申请公布号 | CN102534457A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201110372539.6 | 申请日期 | 2011.10.10 |
| 申请人 | 苏舍美特科公司 | 发明人 | K·冯尼森;M·金德拉特;R·C·施密德 |
| 分类号 | C23C4/12(2006.01)I;C23C4/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C4/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 黄念;林毅斌 |
| 主权项 | 一种在基材表面制备热障涂层结构(10)的方法，其中‑提供具有等离子体炬(4)的工作腔室(2)；‑等离子体射流(5)这样产生：等离子体气体被引导穿过等离子体炬(4)并在那里通过电气体放电和/或电磁感应和/或微波进行加热；和‑使等离子体射流(5)导向至该被引入工作腔室中的基材(3)的表面，其特征在于：‑在等离子体炬(4)和基材(3)之间施加电压，以在等离子体炬(4)和基材(3)之间产生电弧并且通过该电弧清洁该基材表面；‑在电弧清洁后，基材(3)保持在工作腔室中并且在以这种方式清洁的基材表面上产生具有0.02μm至5μm，特别地0.02μm至2μm厚度的氧化物层(11)，和‑在附加的步骤中，通过等离子体喷涂方法施加至少一个热障涂层(12)。 | ||
| 地址 | 瑞士沃伦 | ||