| 发明名称 | 一种磁控溅射靶磁场源 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种磁控溅射靶磁场源，该磁场源能够产生辐射状环形磁场。该磁场源的构成为：在一个磁环中间放一个磁柱，磁柱的磁场方向与磁坏的磁场方向相反，从而形成辐射状的磁场。其特征在于：能够产生辐射状环形磁场，具有生产和使用成本低、安装方便、使用寿命长等特点。在磁控溅射镀膜领域具有很大的应用价值。 | ||
| 申请公布号 | CN102543354A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201010587389.6 | 申请日期 | 2010.12.09 |
| 申请人 | 河南师范大学 | 发明人 | 杨海刚;张基东;宋桂林;王天兴;尤天友;常方高 |
| 分类号 | H01F7/02(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | H01F7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种磁控溅射靶磁场源，该磁场源的构成为：在一个磁环中间放一个磁柱，磁柱的磁场方向与磁环的磁场方向相反，从而形成辐射状的磁场。 | ||
| 地址 | 453007 河南省新乡市建设路46号 | ||