发明名称 面位置检测装置、曝光装置以及元件制造方法
摘要 本发明提供一种面位置检测装置,可抑制棱镜构件的内面反射面所全反射的光束所产生的藉由偏光成分而引起的相对性的位置偏移对被检面的面位置的检测所造成的影响,并且可高精度地检测被检面的面位置。投射系统以及受光系统之中的至少一者包括全反射棱镜构件(7;8),该全反射棱镜构件(7;8)具有用以使入射光束全反射的内面反射面(7b、7c;8b、8c)。为了抑制于全反射棱镜构件的内面反射面所全反射的光束的藉由偏光成分而引起的相对性的位置偏移对被检面(Wa)的面位置的检测所造成的影响,而设定形成全反射棱镜构件的光学材料的折射率与相对于全反射棱镜构件的内面反射面的入射光束的入射角满足规定关系。
申请公布号 CN101305259B 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN200680042262.8 申请日期 2006.11.14
申请人 株式会社尼康 发明人 日高康弘
分类号 G01B11/00(2006.01)I;G03F9/02(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G01B11/00(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人 寿宁
主权项 一种面位置检测装置,包括:投射系统,将光束自倾斜方向投射至被检面上;以及受光系统,接受于上述被检面所反射的光束;且根据该受光系统的输出检测上述被检面的面位置,该面位置检测装置的特征在于:上述投射系统具有用以于上述被检面上形成规定图案的一次像的投射光学系统,上述受光系统具有聚光光学系统,用以使于上述被检面所反射的光束聚光并形成上述规定图案的二次像,且上述投射系统以及上述受光系统之中的至少一者包括全反射棱镜构件,该全反射棱镜构件配置在该投射光学系统与该被检面之间的光路中及该聚光光学系统与该被检面之间的光路中的至少一者的光路中,且具有用以使该光束全反射的全反射面,且形成上述全反射棱镜构件的光学材料的折射率、与对于上述全反射面的上述光束的入射角满足的关系使该全反射面所全反射的该光束的藉由偏光成分而引起的相对的位置偏移量的大小在规定范围内。
地址 日本东京