| 发明名称 | 荷电镶嵌膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及荷电镶嵌膜，其特征在于，含有以乙烯醇系聚合物嵌段（A）和具有阳离子性基团的聚合物嵌段（B）作为构成成分的阳离子性嵌段共聚物（P）、和以乙烯醇系聚合物嵌段（C）和具有阴离子性基团的聚合物嵌段（D）作为构成成分的阴离子性嵌段共聚物（Q）。这样的荷电镶嵌膜的膜强度高、选择渗透性和荷电密度高、盐的渗透通量大，因此作为压力透析用的荷电镶嵌膜是有用的。 | ||
| 申请公布号 | CN102548646A | 申请公布日期 | 2012.07.04 |
| 申请号 | CN201080025729.4 | 申请日期 | 2010.04.08 |
| 申请人 | 国立大学法人山口大学;可乐丽股份有限公司 | 发明人 | 比嘉充;直原敦;小林谦一;藤原直树 |
| 分类号 | B01D69/02(2006.01)I;B01D71/38(2006.01)I;B01D71/80(2006.01)I;C08J5/22(2006.01)I | 主分类号 | B01D69/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 庞立志;高旭轶 |
| 主权项 | 荷电镶嵌膜，其含有以乙烯醇系聚合物嵌段（A）和具有阳离子性基团的聚合物嵌段（B）作为构成成分的阳离子性嵌段共聚物（P）、和以乙烯醇系聚合物嵌段（C）和具有阴离子性基团的聚合物嵌段（D）作为构成成分的阴离子性嵌段共聚物（Q）。 | ||
| 地址 | 日本国山口县山口市 | ||